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第809章 吃干抹净方小年求订（第12页）

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：“不过……euv的实际进展有点辣眼睛。”

“毕竟是比欧美晚了十几年才开始研究，心急吃不了热豆腐。”苗为安慰了一句。

“……”

其实许多人，包括苗为不明白方年为什么会如此极力坚持euv。

毕竟理论上duv可以支持到7纳米光刻。

现在全世界最先进制程的是英特尔，才搞定22纳米。

距离7纳米看起来是很遥远的。

而且到这一步，为了防止原子漏跑等，简称漏电，现在国际先进制程已经在考虑ffet工艺。

这就开始出现方年所说的技术瓶颈。

按照国际半导体技术蓝图定义技术节点是最小金属间距（p）的一半来算，p减少开始变缓；

偏偏3d化后，晶体管数量依旧激增，这样就显示不出工艺进步了。

于是……

下一代工艺命名就按照了早期二维晶体管形式的长宽各缩短07，则面积缩小一半（07x07＝05）这样的一个形式来简化计算。

什么叫简化计算……

即，20x07＝14。

再然后是14→10→7→5→3。

那么实际上p减少了多少呢？

以台积电为例，从10纳米到7纳米，p从44纳米降到了40纳米。

只有坚守摩尔定律的英特尔死活在14n+、++、+++上停滞不前。

英特尔甚至想说一句：不标准的命名规则都特么是耍流氓。

这也是从终端用户角度上，更先进制程的突破，体验感并未成倍数突破的原因。

甚至可以说，英特尔的14n+++≈广泛意义上的7n。

因为两者每平方毫米晶体管数量基本相等。

综上……

方年之所以毫不犹豫alleuv。

是因为这特么眨巴眼的功夫，就必须要用到euv了。

在方年重生之前，别说瓦森纳、禁运这些，就唯一可以生产euv的asl手头上握着起码能排到五年后的订单。

原因十分简单：产不出来。

方年既然有理想有抱负，怎么可能在这里不来一手准备？

现在开始alleuv，起码五年十年后，梼杌是能搞出来点东西的。

euv（极紫外）的光源波长直接就从193纳米跳到了10~14纳米之间的，目前研究资料表明，135n波长是可用性最高的。

这样一来，在尖端光刻领域，就有了话语权。

稍顿，苗为沉吟着道：“duv光刻的进展这么顺利，前沿有无量产计划？”

“暂时没有，到28纳米再说。”方年平静道，“我想应该有人会主动给我们送这中间的成套设备。”

苗为一下就懂了，忍不住伸手虚点了方年两下：“你小子，难怪马珀利跟雷軍都公开吹捧说你是最成功的商人，没有之一云云，你简直就是个商业奇才！”

接着又含蓄的提了句：“大基金的事情快提上议程了。”

“……”